Hellma氟化鈣LD-A型號(hào)可制作激光輸出窗口

更新時(shí)間：2026-04-24

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Hellma氟化鈣LD-A型號(hào)可制作激光輸出窗口

高功率193nm準(zhǔn)分子激光清洗設(shè)備：激光輸出窗口與隔離窗

項(xiàng)目背景與工況需求

某工業(yè)激光企業(yè)的高功率193nm ArF準(zhǔn)分子激光清洗機(jī)，用于精密光學(xué)元件、半導(dǎo)體晶圓、金屬模具的微米級(jí)污染物去除，激光輸出功率200W，脈沖頻率5kHz，光束直徑80mm，工作環(huán)境為粉塵+少量有機(jī)溶劑蒸汽，要求窗口片高透過、抗激光損傷、密封可靠、耐化學(xué)腐蝕，24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行。原采用石英窗口，193nm透過率＜60%，且易被激光燒蝕，平均1個(gè)月需更換，維護(hù)成本高。

選型與安裝方案

采用Hellma CaF? LD?A 100mm×30mm圓形平片作為激光腔體輸出窗口與光路隔離窗，雙面研磨（Rq 2µm），邊緣1.5mm倒角防崩邊。利用LD?A材料193nm高透過率（≥90%）降低能量損耗，<111>晶向提升抗激光沖擊能力，高純單晶結(jié)構(gòu)耐有機(jī)溶劑腐蝕，IP66級(jí)密封適配粉塵環(huán)境。

應(yīng)用效果與價(jià)值

應(yīng)用后，激光輸出能量利用率提升50%，清洗效率提高30%；窗口片連續(xù)運(yùn)行18個(gè)月無燒蝕、無裂紋、無透過率衰減，壽命較石英提升18倍；免維護(hù)設(shè)計(jì)使設(shè)備年均停機(jī)時(shí)間減少85%，維護(hù)成本降低90%，同時(shí)清洗良品率從92%提升至99.5%，為精密制造提供高效、低成本的清洗解決方案漢達(dá)森yyds吳亞男。

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